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2023/11/30 | 10:00～16:00
ALD（原子層堆積）/ ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用 | CMC...
本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI...
2023/12/04 | 12:30～16:30
プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門
本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の生成機構や特徴について解説します。後半ではそれらを踏まえて、プラズマCV...
2023/12/04 | 12:30～16:30
プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門【LIVE配信】 | セミ...
プラズマは現在では産業の広い分野で日常的に使われています。しかし、プラズマの原理やプラズマを用いることの利点については、あまり系統的に学ぶ機会がないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具とし...
2023/12/13 | 13:00-16:30
セミナー「ペロブスカイト太陽電池の高効率・高耐久化の最新技術と屋...
ペロブスカイト材料を用いる光電変換素子のエネルギー変換効率は、単結晶Si太陽電池と同等の26％、Siとのタンデムセルでは34％に達している。溶液塗布（印刷法）を使った低コスト生産によって軽量でフ...
2023/12/15 | 10:00〜16:30
膜質制御法・膜応力低減法・密着力向上習得のための スパッタリング成...
成膜・薄膜形成の基礎,膜質制御・剥離対策に必要な知識,膜応力や密着力の評価方法,管理に必要な知識について,豊富な経験に基づき徹底解説する特別セミナー！！
2023/12/04 〜 2023/12/19 | 12/4 12:30～16:30
プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門【提携セミナー】 |...
☆薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説します！ ☆プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説します！
2023/12/05 〜 2023/12/19
プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門【アーカイブ配信】...
プラズマは現在では産業の広い分野で日常的に使われています。しかし、プラズマの原理やプラズマを用いることの利点については、あまり系統的に学ぶ機会がないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具とし...
2023/12/20 | 13:00～17:00
ミストCVD法の基礎と酸化ガリウムのパワーデバイスへ向けた結晶成長・...
低コストの成膜方法として期待されているミストCVD法と、大きなバンドギャップと低コストで形成できる酸化ガリウム（Ga2O3）について紹介する。パワーデバイス応用に重要な不純物添加技術や混晶化技術...
2023/12/20 | 13:00～17:00
ミストCVD法の基礎と酸化ガリウムのパワーデバイスへ向けた結晶成長・...
本講演では、低コストの成膜方法として期待されているミストCVD法と、大きなバンドギャップと低コストで形成できる酸化ガリウム（Ga2O3）について紹介する。そのGa2O3は5つの結晶多形が存在し、...