2022/09/22 | 10:30~16:15
レジスト材料の高感度、高解像度化と欠陥対策
リソグラフィの最新動向とレジスト材料への要求特性、EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発動向と高感度、高解像度化、レジスト材料の付着性解析と欠陥、トラブル対策について講演する。
2022/09/22 | 10:30~16:15
レジスト材料の 高感度、高解像度化と欠陥対策
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加えて...
2022/09/22 | 13:00~17:00
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
【講演趣旨】 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。
2022/11/29 | 13:30~16:15
【オンラインLive配信・WEBセミナー】プリント配線基板用ソルダーレジ...
約120年前に発明された無線通信技術の進歩は目覚ましいものがあります。また移動体通信はおよそ 10年毎にステップアップしてきており、現在進行中の5G規格を理解するためには基本知識が必要です。 ...
2022/12/07 | 10:30~16:15
EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向【...
2017年EUV光源パワーが250Wを達成したことにより、2019年の7nmノードからの本格的な量産が開始された。現在5nmノードまで進展し、Critical layer数層から10数層へと加工...
2022/12/07 | 10:30~16:15
EUVリソグラフィの発展・課題と レジスト材料・技術の研究・開発動向...
第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏...
2022/12/23 | 13:00~16:30
5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策【...
高周波対応(5G移動体無線、ミリ波)対応の機能性材料は、今後の高周波用プリント基板の機能性向上、およびモバイル通信分野における重要技術の一つです。本セミナーでは、高周波用のプリント基板・周辺材料...
2023/02/10 | 10:30~16:30
フォトレジスト材料の基本的な構成構造, 材料設計および高感度化
フォトレジスト材料は,化学増幅型システムを基盤として,露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について,高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに,KrF,A...