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No.11719
2022/03/10
EUVリソグラフィの 最新動向とレジスト、光源の開発
1.EUVリソグラフィーの最新動向と課題解決への技術開発 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏 2.EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発動向と要求特性 富士フイルム(株) 藤森 亨 氏 3....
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No.13969
2022/03/17 | 10:30-16:30
セミナー「リソグラフィー/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技...
極端紫外線リソグラフィー(EUVL)技術は30年に開発期間を経て、7 nmおよび5 nm nodeの半導体デバイスの量産に適用されました。しかしながら、さらなる微細化に向けて多くの課題を抱えてい...
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No.45844
2022/09/22 | 10:30~16:15
レジスト材料の 高感度、高解像度化と欠陥対策
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加えて...