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ウェビナー アーカイブ No.10630

2022/04/18

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最新技術動向...

EUVリソグラフィの適用拡大や3nmプロセスへの期待など、これからも目が離せないレジスト・微細加工用材料の全体像を掴む!基礎から現在用いられている最新技術と市場動向、今後の技術展望および課題と対...

ウェビナー No.10113

2022/03/10

セミナー「EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、光源の開発」

EUV技術による微細化追求はどこまで続くのか?レジスト、マスク、光源、ペリクルなど、各部材の微細化への対応状況を探る! <10:00〜12:00> 1.EUVリソグラフィーの最新動向...

ウェビナー No.126719

2023/08/29 | 10:30 - 16:30

「EUVリソグラフィ・EUVレジスト」│基礎・最新開発動向から現状課題...

更なる適用拡大・研究開発進む、EUVリソグラフィをレジスト中心に解説!基本と課題から、EUVレジストへの要求特性と設計指針、最新市場・技術動向、注目技術メタルレジストまで。 ■はじめに: ...

ウェビナー No.15727

2022/04/19 | 10:30~17:30

微細化に対応するためのリソグラフィー技術の基礎とレジスト評価のポ...

~ G線、I線、KrF、ArF、ArF液浸、EUVリソグラフィー技術と評価、ナノインプリント技術、DSA技術 ~ ・リソグラフィー技術を体系的に学び、半導体の微細化、高集積化に対応するための修...

ウェビナー No.138216

2023/09/25 | 12:30 - 16:30

「EUVリソグラフィー 光源」 セミナー│次世代半導体リソグラフィー...

EUV光源技術の研究開発・高効率化〜次世代半導体リソグラフィーに向けて〜。EUVリソグラフィーの露光・光源技術を解説! 半導体は「産業のコメ」から「産業のブレイン」へ。高性能化・省エネ化を急ぐ ...

ウェビナー No.113519

2023/06/07 | 13:30~16:30

2023年6月7日開講。WEBセミナー。「ArFリソグラフィ~EUVリソグラフィ...

2023年6月7日開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。第一人者の リソテックジャパン株式会社/大阪公立大学 関口 淳氏のご講演。ArFリソグラフィ~EUVリソグラフィ...

ウェビナー No.25865

2022/06/20 | 10:30~16:30

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】 | ア...

リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術などについて解説します。  習得できる知識 レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法 レジストの...

ウェビナー No.73789

2023/02/16 | 10:30-16:30

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最先端技術 ~...

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィの先端の量産工程ではダブル/マルチパターニングに加えて、待ち望...

ウェビナー No.109907

2023/06/09 | 10:30-16:30

セミナー「リソグラフィ技術の開発動向とレジスト材料への要求特性、...

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加...

ウェビナー No.113830

2023/07/10 | 10:30 - 16:30

リソグラフィプロセスとレジスト材料技術セミナー

g,i-線から今後需要拡大が見込まれるEUVレジストまでをわかりやすく解説!半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展望を考える機会になれば幸いです。講師は元・JSR鴨志田洋一先生。 ■はじ...

ウェビナー No.11719

2022/03/10

EUVリソグラフィの 最新動向とレジスト、光源の開発

1.EUVリソグラフィーの最新動向と課題解決への技術開発 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏 2.EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発動向と要求特性 富士フイルム(株) 藤森 亨 氏 3....

ウェビナー No.13969

2022/03/17 | 10:30-16:30

セミナー「リソグラフィー/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技...

極端紫外線リソグラフィー(EUVL)技術は30年に開発期間を経て、7 nmおよび5 nm nodeの半導体デバイスの量産に適用されました。しかしながら、さらなる微細化に向けて多くの課題を抱えてい...

ウェビナー No.45844

2022/09/22 | 10:30~16:15

レジスト材料の 高感度、高解像度化と欠陥対策

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加えて...

ウェビナー No.48513

2022/09/29 | 10:30-16:30

セミナー「リソグラフィー/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技...

極端紫外線リソグラフィー(EUVL)技術は30年に開発期間を経て、7 nmおよび5 nm nodeの半導体デバイスの量産に適用されました。しかしながら、さらなる微細化に向けて多くの課題を抱えてい...

アーカイブ No.50783

2022/12/12 〜 2022/12/23

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策【アーカイ...

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているArF液浸、ダブル/マルチパターニ...

ウェビナー アーカイブ No.50784

2022/12/06 | 10:30-16:30

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策」の詳細情...

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているArF液浸、ダブル/マルチパターニ...

ウェビナー アーカイブ No.62280

2022/12/07 | 10:30-16:15

セミナー「EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・...

【1部】EUVリソグラフィ開発課題 【2部】EUVレジスト開発動向 【3部】メタル含有レジスト研究 第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリ...

ウェビナー No.94294

2023/06/21 | 10:30-16:30

セミナー「レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策」の詳細情...

リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術 セミナー終了後に個別相談会(希望者のみ)を実施!セミナー内容に関する質問や現場での困りごとを相談できます!

ウェビナー No.108748

2023/05/25 | 13:00-17:05

セミナー「EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Bey...

~目指すべき半導体業界の将来像~ ★5月発刊予定の書籍「EUVリソグラフィ」の発刊記念セミナー! 第1講では、EUVL技術開発の第一人者が、黎明期のEUVL、技術開発の現状、今後の展...

アーカイブ No.109750

2023/06/26 〜 2023/07/07

セミナー「レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【アーカイ...

~リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術~ このセミナーはアーカイブ配信です。配信期間中(2023年6月26日~7月7日)は、いつでも何度でも視聴できます!