企業向けウェビナー検索
登録件数:145,475件
キーワード
 開催日 
並び替え:
終了日順 関連度順
ウェビナー No.76384

2023/04/21 | 10:30 ~ 17:30

伸縮自在な特性を持つ「透明無機有機複合膜」の開発と応用 <オンラ...

~ 表面が硬く曲げ伸び可能な金属酸化物とフッ素樹脂とのスパッタ複合膜の開発、光学・表示デバイス応用、他の機能膜とのハイブリッド化 ~ ・ガラスの代替を可能とする高機能な複合膜技術を先取りし、軽...

ウェビナー No.95380

2023/04/25 | 10:30-16:30

セミナー「CVD・ALD装置内堆積物の取り扱いとノンプラズマクリ...

化学気相堆積(CVD)法と原子層堆積(ALD)法の装置において、基板の周囲などに付着する堆積膜や排ガス管に溜まる副生成物を取り除くことは大切な操作です。そのために極めて強い腐食性ガスを用いる際に...

ウェビナー No.98439

2023/04/25 | 13:00-16:00

速習・ゾル-ゲル法の技術入門 ~基礎と材料選択、合成、分散技術、有...

★本講座はゾル-ゲル法の中核技術、キモとなる分散を焦点に有機無機ハイブリッド材料設計、有機高分子母材への直接分散技術について分かり易く解説! ゾル-ゲル法/溶液化学法/プロセス解説/ナノ粒子合...

ウェビナー No.102605

2023/04/25 | 10:30~16:30

スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング【LIVE...

スパッタリングは、エレクトロニクスをはじめとした様々なシーンで用いられる重要な技術で、近年はさらに用途が拡大しています。しかし、量産技術をどのように確立し、品質をどのように改善するのかについての...

ウェビナー No.98444

2023/04/27 | 13:00-17:05

ダイヤモンド半導体の特徴とウェハ・デバイスの作製技術および開発事...

★ダイヤモンド半導体は、Si, SiC, GaNより、さらにワイドギャップの半導体で、次世代の高出力・高効率パワー半導体デバイスとして期待されています。本講演では、ダイヤモンド半導体の基礎から、...

ウェビナー No.95214

2023/04/27 | 13:00-17:05

セミナー「ダイヤモンド半導体の特徴とウェハ・デバイスの作製技術お...

★ダイヤモンド半導体は、Si, SiC, GaNより、さらにワイドギャップの半導体で、次世代の高出力・高効率パワー半導体デバイスとして期待されています。本講演では、ダイヤモンド半導体の基礎から、...

アーカイブ No.80637

2023/04/17 〜 2023/04/30

セミナー「光重合開始剤の種類・特徴と選び方・使い方【アーカイブ配...

光硬化技術は工業的に広く利用されており、その用途は多岐にわたります。光重合開始剤は、光照射により重合を開始させる活性種の生成に寄与するだけでなく、光硬化物の特性にも影響を与えるため、望ましい硬化...

アーカイブ No.102606

2023/04/27 〜 2023/05/02

スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング【アー...

スパッタリングは、エレクトロニクスをはじめとした様々なシーンで用いられる重要な技術で、近年はさらに用途が拡大しています。しかし、量産技術をどのように確立し、品質をどのように改善するのかについての...

ウェビナー No.100927

2023/05/15 | 10:30 ~ 17:30

成膜技術の基礎とトラブル対策および薄膜電子デバイスへの応用 <オ...

~ 成膜技術とその物性、薄膜堆積のトラブル対策、VO2薄膜の応用、薄膜電子デバイスへの応用 ~ ・薄膜物性の構造、結晶性、化学組成、電気的特性の評価方法を修得し、高機能な薄膜電子デバイスへの応...

ウェビナー No.110402

2023/05/26 | 10:30-16:30

セミナー「量子ドットの基礎と耐久性向上技術、各応用展開における課...

コロイド法で作る量子ドットは、新しいタイプの蛍光体として知られるようになった。この10年間で発光効率などの特性が飛躍的に向上して価格が劇的に低下し、実用化が本格的に始まった。  本講演では、量...

アーカイブ 視聴無料 No.93636

2023/05/26 | 10:00-16:00

セミナー「ALD(原子層堆積)/ ALE(原子層エッチング)技術の基礎と...

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、...

ウェビナー No.110117

2023/05/30 | 13:00-16:30

セミナー「プラズマCVD(化学気相堆積)装置による高品質薄膜の成...

当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課...

ウェビナー No.110381

2023/05/31 | 10:30-16:30

セミナー「有機半導体の基礎と応用:物性・合成・電子伝導機構・デバ...

2000年以降、有機半導体の単結晶トランジスタが開発されて、10 cm2/Vsを超える移動度が実現したのを契機として、電子物性、有機化学合成、集積回路デバイス研究が急速に進んだ。その結果、198...

ウェビナー No.110388

2023/05/31 | 13:00-16:30

セミナー「スパッタリングの基礎と薄膜の品質向上・不具合対策」の詳...

スパッタリング法は半導体からディスプレイデバイス、電子デバイスまで広く工業的に普及している技術である。薄膜形成方法の中でも、ソース材料(ターゲット)が固体であり、有毒ガスを使用しないため、除害装...

アーカイブ No.109752

2023/05/26 〜 2023/06/05

セミナー「薄膜形成におけるスパッタリング技術の必須基礎知識とトラ...

スパッタによる薄膜形成は大変広く普及している技術ですが、主役となるのが、原子や電子、イオンなどの日常生活とかけ離れた世界です。このため、装置を使っていても、良く解らない不透明感を感じるのが実情と...

ウェビナー No.110691

2023/06/08 | 10:30-16:30

セミナー「<効果的な機能付与を実現する>粉体・微粒子への表面処理...

粉体は様々な産業に利用されているが、バルクの性質に加えて粉体の性質と表面の性質があるために、とても扱い難いものである。特に表面の触媒活性はさほど強い活性がなくても共存する他の成分に影響を与え、...

ウェビナー No.103122

2023/06/13 | 10:30-16:00

セミナー「半導体/プリント基板へのめっきの基礎と最新技術動向」の...

1970年代にスパッタリング法が活発に実用化され、「めっき技術」の研究が軽視されていったが、1980年代に磁気ヘッドや1997年に半導体の銅配線にめっきが使用され、めっき技術への社会的なニーズが...

ウェビナー No.108733

2023/06/13 | 10:30-16:30

セミナー「高周波弾性波デバイス(SAW・BAW)の基礎と高性能化および最...

圧電薄膜バルク波(BAW)共振子(FBARあるいはBAWR)や弾性表面波(SAW)は小形、軽量、周波数無調整、高信頼性、高周波化対応可能等の特徴を持つ。SAWの民生用への応用はテレビの映像中間周...

ウェビナー No.115704

2023/06/16 | 13:00~17:00

ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質膜化および最新動向【LIVE配信】 ...

原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティ...

R&D
ウェビナー No.103519

2023/06/16 | 13:00-16:00

セミナー「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質膜化および最新動向」の...

原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティ...