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No.146478
2024/01/19 | 10:30~16:30
CMPプロセスのメカニズムと 消耗部材への要求性能、最新応用
CMPは約30年前に半導体デバイスの製造に応用された頃にはゲテモノ扱いされていましたが、今ではなくてはならない非常に重要な技術となりました。CMPと一口で言っても実は工程別に平坦化メカニズムも材...
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No.149955
2023/12/01 〜 2024/01/30
O231121:【オンデマンド配信】スラリー調製・分散評価の要点 | 技術セ...
スラリーをどうすれば適切に評価できるのか? スラリーの分散状態は製品特性にどのような影響を及ぼすのか? 本セミナーでは、スラリーを制御するために必要な考え方と粒子分散・凝集状態評価技術を解説する
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No.150058
2024/03/14 | 10:30~16:30
B240314:スラリーの特性・挙動と評価・制御の勘どころ | 技術セミナー...
講師が長年蓄積してきた研究成果をもとに体系化したスラリー工学に沿って、スラリーの特性や挙動、評価・制御・調製技術とそのポイントをわかりやすく解説します。初学者から、スラリーに悪戦苦闘している方ま...