2023/03/01 | 10:30 ~ 17:30

ドライプロセスを駆使した薄膜形成技術と機能デバイス開発へのポイン...

～ ドライプロセスによる機能デバイスの製造、真空技術の基礎、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、CVD、ALD、ドライエッチング技術とその応用 ～ ・機能性薄膜の形成技術を基礎から...

2023/02/17 | 13:00-16:30

セミナー「圧電薄膜の成膜、評価技術とMEMS応用」の詳細情報 - ものづ...

PZT薄膜を中心とした圧電薄膜のMEMSデバイス応用の研究開発が活発化している。 圧電MEMSの特徴的な基本技術は、圧電薄膜材料、薄膜化、および圧電評価技術である。本講演では、これらの技術に...

2023/03/08 | 10:30-16:30

セミナー「薄膜の剥離メカニズムと密着性改善の考え方、密着力の評価...

本セミナーでは、薄膜の密着性の問題に実践的に対処する際に知っておくべき基本的な内容について、具体的な問題点とその解決のキーポイントの例示→その技術内容に関わる最低限知っておきたい基礎事項の紹介→...

2023/06/23 | 10:30 - 16:30

スパッタリング薄膜の基礎とプロセス改善、トラブル対策

スパッタリング法の基礎から薄膜の品質安定化、密着性改善、生産性向上、トラブル対応まで重要ポイントを分かりやすく解説します！ 　スパッタリングは、エレクトロニクスをはじめとした様々なシーンで...

2023/06/27 | 12:30-16:30

セミナー「光学薄膜の基礎とその解析および多層膜・多層フィルムの最...

光学薄膜の解析に必要な光学の基礎理論と多層膜の特性値（反射率、透過率等）の計算方法および多層膜の最適設計手法について、基礎からわかりやすく解説します。 光学多層膜の設計では、使用する薄膜材料や...

2023/12/05 | 10:00～16:00

薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用の最新動向（セミナー） |...

真空技術および薄膜技術の基本と、各種薄膜技術の原理を紹介し、薄膜の設計から高品質化・不具合対策まで、重要なポイントを解説します。また、後半では医療機器や家電、建材、自動車、航空・宇宙など、今後注...

2022/02/03

機能材料の付着・密着性評価、改善および剥離トラブル防止対策 | 株式...

1.産業における薄膜付着性の重要性 　　・半導体（ナノパターン付着、ナノ薄膜） 　　・高周波プリント基板(低誘電率、低誘電正接) 　　・電池デバイス（高出力化、低内部インピーダンス） 　　・ペー...

「原子層堆積（ALD)技術による薄膜形成」 - YouTube

第5回 微細加工プロセス技術セミナー（2021年1月13日） 　【チュートリアル】 講師：北海道大学　松尾保孝 原子層堆積（Atomic Layer Deposition：ALD）による薄膜作製...

2022/04/08 | 10:30-16:30

セミナー「ＡＬＤ（原子層堆積法）の原理と薄膜形成法 ～薄膜の特性・...

Atomic Layer Deposition（ALD、原子層堆積法）による薄膜合成は、ナノメートルレベルでの膜厚制御性、膜厚均一性などから、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成な...

今さら聞けない「薄膜形成技術」種類と選び方

高密度・低欠陥化を実現した新しいスパッタ薄膜も事例で紹介 半導体・電子デバイスの品質を左右する「薄膜」は、特性や材料に応じて最適な工法を選ぶ必要がありますが、「実は基礎から学んだ経験がない...

2022/09/02 | 10:30-16:30

セミナー「今注目のALD（原子層堆積法）およびALE（原子層エッチング...

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、...

2023/03/09 | 13:00-17:00

セミナー「圧電薄膜技術とその測定法および圧電MEMSデバイスの最新動...

圧電薄膜を用いたMEMS技術について，その特徴と実用化に向けた現在の開発状況，また圧電薄膜およびその評価技術に関する基礎について解説する． 　圧電材料の有する優れた電気機械変換効果は，マイクロ...

2023/03/29 | １０：００～１６：１５

原子層堆積（ALD）技術による 薄膜作製と原料の開発、応用

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、...

2023/07/26 | 10:30-17:00

セミナー「酸化ガリウム(Ga2O3)の結晶成長・薄膜形成とデバイス応用」...

α相 β相 κ相 γ相 δ相 5つの結晶多形における研究開発動向を紹介 ミスト流を利用した機能膜作製手法「ミストCVD」の概要と技術動向についても解説 本セミナーでは、新しいパワーデバイ...

2023/06/28 | 10:00-16:00

セミナー「＜半導体加工技術での高機能薄膜の形成へ＞ＡＬＤ（原子層...

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。 　薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプ...

2023/10/19 | 10:00～16:30

B231029:薄膜の剥離メカニズムと密着性改善

本セミナーでは、薄膜の密着性の問題に実践的に対処する際に知っておくべき基本的な内容について、具体的な問題点とその解決のキーポイントの例示→その技術内容に関わる最低限知っておきたい基礎事項の紹介→...

セミナー「＜半導体加工技術での高機能薄膜の形成へ＞ＡＬＤ（原子層...

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。 　薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプ...

2024/02/06 | １０：００～１６：００

ALDプロセス（原子層堆積）の 反応機構、薄膜形成とその応用事例

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、...

2024/02/09 | 10:30～16:30

B240249:薄膜作製の基礎と薄膜評価・トラブル対策 | 技術セミナーの開...

スパッタ法，真空蒸着法，CVD法の原理やそれぞれ得られる膜の特徴、作製した薄膜の評価方法等など…。 本セミナーでは、成膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に、薄膜作製の基礎知識を幅広く...

2024/02/09 | 10:30～16:30

薄膜作製の基礎と薄膜評価・トラブル対策【提携セミナー】 | アイアー...

スパッタ法，真空蒸着法，CVD法の原理やそれぞれ得られる膜の特徴、作製した薄膜の評価方法等など…。 本セミナーでは、成膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に、薄膜作製の基礎知識を幅広く解...