2023/12/08 | 10:30-16:30

リソグラフィー技術の基礎とフォトレジストの評価方法《研究開発、製...

本講座では、バーチャル・リソグラフィ評価方法の解説を中心に、リソグラフィーの基礎から、最新のフォトレジスト材料の評価方法について述べたいと思います。

2022/06/20 | 10:30～16:30

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】 | ア...

リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術などについて解説します。 　習得できる知識 レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法 レジストの...

2022/12/07 | 10:30-16:15

セミナー「EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・...

【1部】EUVリソグラフィ開発課題 【2部】EUVレジスト開発動向 【3部】メタル含有レジスト研究 第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリ...

2022/12/12 〜 2022/12/23

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策【アーカイ...

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているArF液浸、ダブル/マルチパターニ...

2022/12/06 | 10:30-16:30

セミナー「レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策」の詳細情...

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているArF液浸、ダブル/マルチパターニ...

2023/06/09 | 10:30-16:30

セミナー「リソグラフィ技術の開発動向とレジスト材料への要求特性、...

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加...

2022/04/19 | 10:30~17:30

微細化に対応するためのリソグラフィー技術の基礎とレジスト評価のポ...

～ G線、I線、KrF、ArF、ArF液浸、EUVリソグラフィー技術と評価、ナノインプリント技術、DSA技術 ～ ・リソグラフィー技術を体系的に学び、半導体の微細化、高集積化に対応するための修...

2023/06/21 | 10:30～16:30

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【LIVE配信】 | セミナ...

習得できる知識 ・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法 ・レジストの品質管理手法 ・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力 ・リソグラフィープロセスの最適化方...

Windows デジタル フォレンジック

Windows レジストリ ファイルの場所 レジストリキーと値の意味 レジストリファイルの抽出 レジストリビューア レギュリッパー WRR レジストリ エクスプローラー ユーザーの...

2023/12/08 | 10:30～16:30

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価【提携セミナー】 |...

特にレジスト材料 (感光性樹脂)・プロセスについて解説するとともに、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレ...

2022/06/23 | 13:00～16:00

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

　EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

2022/08/30 | 10：30～16：30

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

　メモリー、マイクロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっています。 　本講演では、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支え...

2022/06/23 | 13:00～16:00

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術【提携セミナー】 | アイア...

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

2022/09/22 | 13:00~17:00

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

【講演趣旨】 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

2022/09/22 | 10:30~16:15

レジスト材料の高感度、高解像度化と欠陥対策

リソグラフィの最新動向とレジスト材料への要求特性、EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発動向と高感度、高解像度化、レジスト材料の付着性解析と欠陥、トラブル対策について講演する。

2022/12/06 〜 2022/12/23 | 12/6　10:30～16:30

レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策【LIVE配信】 | セミナ...

本講演では、リソグラフィの基礎を解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎を述べ、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説する。最後に本年の3nmロジック...

2023/06/09 | １０：３０～１６：３０

リソグラフィ技術の開発動向と レジスト材料への要求特性、トラブル対...

本講演では、最新のロードマップを紹介し、EUVを中心としたリソグラフィの最先端技術、開発動向、レジスト材料への要求特性について解説する。量産工程で実際に起こるレジスト材料のトラブルについて、その...

2023/09/07 | 10:30-16:30

セミナー「レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向」の...

メモリー、マイクロプロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっています。 　本講演では、リソグラフィの基礎、最新のロードマップを述べた後、デバイス...

2023/09/07 | 10:30～16:30

A230907: レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

メモリー、マイクロプロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっています。 　本講演では、リソグラフィの基礎、最新のロードマップを述べた後、デバイス...

2023/12/08 | 10:30～16:30

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価【LIVE配信】 | セミ...

レジスト材料 (感光性樹脂)・プロセスの説明から、化学成分とレジスト特性との関係、具体的なレジスト評価法まで丁寧に解説します！