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No.147242
2024/02/06 | １０：００～１６：００
ALDプロセス（原子層堆積）の 反応機構、薄膜形成とその応用事例
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、...