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ウェビナー
No.144860
2023/12/04 | 12:30~16:30
プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門
本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマ(非平衡プラズマと呼ばれる)の生成機構や特徴について解説します。後半ではそれらを踏まえて、プラズマCV...